ZESTRON发布全球首款去涂覆材料的水基型pH中性清洗剂

电子制造和半导体封装精密清洗专家、工艺方案及咨询培训服务提供商ZESTRON,即将发布全球首款去涂覆材料的水基型pH中性清洗剂ATRON® DC

ATRON® DC采用温和配方,操作安全性极高。无需使用腐蚀性剥离化学品,ATRON® DC超强的清洗能力,可以去除包括丙烯酸酯,聚氨酯,环氧树脂,UV固化型或聚对二甲苯等在内的多种涂覆材料,同时显现卓越的材料兼容性,广泛适用于所有常见的维护清洗设备,特别是浸没式和超声波清洗工艺。此外ATRON® DC能够帮助客户精简去涂覆的工艺流程从而提高操作人员的工作效率。

“帮助客户提升可靠性、操作安全性、环保性和解决工艺难题是ZESTRON前进的动力。ATRON® DC可以为我们的客户在提高效率和提升环保安全操作方面提供更多的可能。”北亚区总经理沈剑表示。

展会预告:ZESTRON将于2019年8月28日至30日出席NEPCON华南国际电子生产设备展,在深圳会展中心1号馆1N10展台为您展示ATRON® DC及多款国内外领先清洗设备。

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